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货号 | 粒径 | 参数 | 溶剂 | 适用领域 |
Brofos-CeO2-2N100 | 100nm | 2N 浓度20% | 水 | 光学玻璃、保护片玻璃等精抛 |
Brofos-CeO2-2N200 | 200nm | 2N 浓度20% | 水 | 光学玻璃、保护片玻璃抛光等粗抛 |
Brofos-CeO2-2N500 | 500nm | 2N 浓度20% | 水 | 磨耗度200-300光学玻璃精抛光 |
Brofos-CeO2-3N030 | 30nm | 3N 浓度20% | 水 | 单晶硅精抛光、软材质玻璃精抛（磨耗度大于450）流系玻璃 |
Brofos-CeO2-3N100 | 100nm | 3N 浓度20% | 水 | K9、蓝玻璃滤光片、红外滤光片精抛 |
Brofos-CeO2-3N200 | 200nm | 3N 浓度20% | 水 | K9、BK7、B270、石英等光学玻璃半精抛 |
Brofos-CeO2-3N500 | 500nm | 3N 浓度20% | 水 | 蓝玻璃滤光片、红外滤光片等粗抛 |
Brofos-CeO2-4N100 | 100nm | 4N 浓度20% | 水 | 单晶硅多晶硅、石英玻璃晶圆、激光晶体等半精抛 |
Brofos-CeO2-4N200 | 200nm | 4N 浓度20% | 水 | 单晶硅多晶硅、石英玻璃晶圆、激光晶体等粗抛 |
Brofos-CeO2-5N030 | 30nm | 5N 浓度20% | 水 | 硅、石英晶圆精抛光、精密光学抛光、伸化家等半导体领域化合物（Ra0.1-0.2nm) |
Brofos-CeO2-5N100 | 100nm | 5N 浓度20% | 水 | 硅、石英晶圆精抛光、精密光学抛光、神化家等半导体领域化合物(基于不同粗糙度要求0.5-0.6nm） |
备注：如用户需求其他粒度规格的产品，公司提供定制化生产，价格合理欢迎咨询。 | ||||
产品简介：
该产品采用氧化铈抛光粉为主要原料，在严格控制粒径、改善粒子表面特性和利用化学增强抛光原理的基础上所开发的适合光学精密件稳定抛光的一款新产品；该产品悬浮体系稳定，被抛光工件表面稳定，粗糙度低，进而全面提升产品表面质量，降低总体生产成本。与传统抛光粉相比，抛光液使用简便、抛光表面易清洗、无抛光设备腐蚀、在抛光机以及抛光垫上无沉积。
产品特性：
1.颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷；
2.颗粒粒径分布适中，最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度,
3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量;
4.低VOC配方，使用过程避免粉尘产生，关注环保和人体健康安全
应用领域：
1.适用于dsti-cmp，集成电路光掩模，高精度光学仪器，光学透镜，LCD，多芯光纤连接器，玻璃陶瓷基板，晶体表面等的精密抛光。
2.高效催化剂，精密抛光，化工助剂，电子陶瓷，结构陶瓷，紫外线吸收剂，电池材料。
3.合金镀层︰添加在锌镍、锌钻和锌铁合金中改变锌的电结晶过程，促使晶面产生择优取向，镀层组织更均匀、更致密，从而提高镀层耐蚀性。
4.精细功能陶瓷﹔添加于陶瓷中可较低烧结温度，抑制晶格生长，提高陶瓷的致密性。
5.作为塑料润滑剂，提高塑料的润滑系数。
6.聚合物:可增加聚合物的热稳定性和抗老化性。
7.用作塑料，橡胶的热稳定剂和抗老化剂。
货号 | 粒径 | 参数 | 溶剂 | 适用领域 |
Brofos-CeO2-2N100 | 100nm | 2N 浓度20% | 水 | 光学玻璃、保护片玻璃等精抛 |
Brofos-CeO2-2N200 | 200nm | 2N 浓度20% | 水 | 光学玻璃、保护片玻璃抛光等粗抛 |
Brofos-CeO2-2N500 | 500nm | 2N 浓度20% | 水 | 磨耗度200-300光学玻璃精抛光 |
Brofos-CeO2-3N030 | 30nm | 3N 浓度20% | 水 | 单晶硅精抛光、软材质玻璃精抛（磨耗度大于450）流系玻璃 |
Brofos-CeO2-3N100 | 100nm | 3N 浓度20% | 水 | K9、蓝玻璃滤光片、红外滤光片精抛 |
Brofos-CeO2-3N200 | 200nm | 3N 浓度20% | 水 | K9、BK7、B270、石英等光学玻璃半精抛 |
Brofos-CeO2-3N500 | 500nm | 3N 浓度20% | 水 | 蓝玻璃滤光片、红外滤光片等粗抛 |
Brofos-CeO2-4N100 | 100nm | 4N 浓度20% | 水 | 单晶硅多晶硅、石英玻璃晶圆、激光晶体等半精抛 |
Brofos-CeO2-4N200 | 200nm | 4N 浓度20% | 水 | 单晶硅多晶硅、石英玻璃晶圆、激光晶体等粗抛 |
Brofos-CeO2-5N030 | 30nm | 5N 浓度20% | 水 | 硅、石英晶圆精抛光、精密光学抛光、伸化家等半导体领域化合物（Ra0.1-0.2nm) |
Brofos-CeO2-5N100 | 100nm | 5N 浓度20% | 水 | 硅、石英晶圆精抛光、精密光学抛光、神化家等半导体领域化合物(基于不同粗糙度要求0.5-0.6nm） |
备注：如用户需求其他粒度规格的产品，公司提供定制化生产，价格合理欢迎咨询。 | ||||
产品简介：
该产品采用氧化铈抛光粉为主要原料，在严格控制粒径、改善粒子表面特性和利用化学增强抛光原理的基础上所开发的适合光学精密件稳定抛光的一款新产品；该产品悬浮体系稳定，被抛光工件表面稳定，粗糙度低，进而全面提升产品表面质量，降低总体生产成本。与传统抛光粉相比，抛光液使用简便、抛光表面易清洗、无抛光设备腐蚀、在抛光机以及抛光垫上无沉积。
产品特性：
1.颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷；
2.颗粒粒径分布适中，最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度,
3.运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量;
4.低VOC配方，使用过程避免粉尘产生，关注环保和人体健康安全
应用领域：
1.适用于dsti-cmp，集成电路光掩模，高精度光学仪器，光学透镜，LCD，多芯光纤连接器，玻璃陶瓷基板，晶体表面等的精密抛光。
2.高效催化剂，精密抛光，化工助剂，电子陶瓷，结构陶瓷，紫外线吸收剂，电池材料。
3.合金镀层︰添加在锌镍、锌钻和锌铁合金中改变锌的电结晶过程，促使晶面产生择优取向，镀层组织更均匀、更致密，从而提高镀层耐蚀性。
4.精细功能陶瓷﹔添加于陶瓷中可较低烧结温度，抑制晶格生长，提高陶瓷的致密性。
5.作为塑料润滑剂，提高塑料的润滑系数。
6.聚合物:可增加聚合物的热稳定性和抗老化性。
7.用作塑料，橡胶的热稳定剂和抗老化剂。
